什么是曝光設備及應用

更新時間：2024-11-14

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曝光裝置是在半導體、液晶顯示器等制造現場使用的裝置，通過照射光在基板上描繪電路、像素等圖案。由于它們使用強的光線并需要精確控制平臺等，許多產品體積龐大且成本數十億美元。曝光工藝是半導體和液晶顯示器制造中非常重要的設備，因為它決定了設計數據（ CAD數據）的圖案。每家公司都開發了多種曝光方法并在自己的設備中使用它們。曝光設備的應用

圖1. TFT液晶顯示器的TFT基板側的制造流程概述曝光設備主要用于半導體制造現場和液晶顯示器等平板顯示器（FPD）制造現場。在半導體制造工藝中，以硅晶片為基板，形成氧化膜，涂敷光致抗蝕劑（感光材料），并通過光掩模用從曝光裝置發出的強紫外線照射涂敷表面。允許通過蝕刻等去除不需要的部分。這種使用曝光設備的方法稱為光刻法。在LCD制造過程中，一般采用玻璃基板，并重復金屬薄膜沉積、光刻和蝕刻的多個循環。可以在一個基板上形成像素電極和開關元件(TFT元件等)，并且可以在另一基板上形成具有光的三基色(紅、綠和藍)的濾色器。通過將兩個基板粘合在一起并在其間放置液晶材料，就完成了用于 LCD 顯示器的面板。選擇曝光設備時，需要在購買前與設備制造商充分討論曝光所用光源的類型和精度、載物臺的精度等，因為其價格非常昂貴。